专业解决五金冲压难题

高精密异形件加工，一站式解决方案

  本报讯砷化镓被认为是下一代最有期望的半导体资料。日本三菱电机大规模集成电路研讨所最近成功地使用一种叫作“离子束直接曝光”的新技能制作场效应半导体。因而，有期望加速电子计算机高功用化的开展。

  因砷化镓半导体运算速度快，作为推动集成化的半导体资料越来越受注重，但由于迄今还没有一种恰当的微细加工技能，所以它的这一长处没有正真取得充分发挥。

  场效应半导体简单完成高集成化，但高速性尚显缺乏，这次成功将有利于战胜这一缺点。（刘莘）