专业解决五金冲压难题

高精密异形件加工，一站式解决方案

  据报道，近来，我国科学院姑苏纳米技能与纳米仿生研讨所张子旸研讨员与国家纳米中心刘前研讨员协作，开发成功新式5nm超高精度激光光刻加工办法。该技能运用了研讨团队所开发的具有彻底知识产权的激光直写设备，打破了传统激光直写技能中受体资料为有机光刻胶的约束，可运用多种受体资料，极大地扩展了激光直写的使用场景。

  亚10nm的结构在集成电路、光子芯片、微纳传感、光电芯片、纳米器材等技能范畴有着非常大的使用需求，这对微纳加工的功率和精度提出了许多新的应战。但是，长期以来激光直写技能很难做到纳米标准的超高精度加工。此次我国研讨团队很好地处理了高效和高精度之间的固有对立，开发的新式微纳加工技能在集成电路、光子芯片、微机电体系等很多微纳加工范畴展示了宽广的使用远景。

  苏大维格：研制成功紫外激光直写光刻关键技能、软件和配备，处于世界领头羊。公司在互动渠道表明，与我国科学院姑苏纳米技能与纳米仿生研讨一切项目协作。